Particular 4.1 更新内容：文本发射器 – 使用文本作为发射器，从以前的版本中大大加快了创建过程。

无需预编译。

通过控制沿文本路径显示粒子来创建写入效果。

遮罩发射器 – 使用MASK遮罩作为发射器，可以轻松创建独特形状的发射器或使用图像的某些部分作为粒子发射源。

无需预编译。

通过控制沿着遮罩路径的粒子显示来创建写入效果。

更新的设计器 – 此版本中的新增功能是对文本和遮罩的支持，可以直接在Designer中创建文本和遮罩基于路径的效果。

Shadowlet粒子类型匹配 – 将Shadowlet形状与源匹配的阴影的粒子类型相匹配。

以前，所有的影子都是圆形的。

Shadowlet柔软度 – 控制阴影的柔和度。

预设 – 添加了21个新预设，为您提供实时预览，并帮助您开始使用新功能。

现在有超过355个预设。

Form 4.1 更新内容：文本粒子 – 使用文本作为基本粒子，从以前的版本中大大加快了创建过程。

无需预编译。

还包括写入效果选项，用于控制沿文本路径创建粒子的位置。

遮罩粒子 – 使用蒙版遮罩作为基本粒子，使用After Effects蒙版/路径工具创建表单变得简单，或者使用图像的某些部分作为表单的源。

无需预编译。

通过控制沿着遮罩路径的粒子显示来创建写入效果。

更新的设计器 – 此版本中的新增功能是对文本和蒙版的支持，可以直接在Designer中创建文本和屏蔽基于路径的效果。

Shadowlet粒子类型匹配 – 将Shadowlet形状与与源匹配的阴影的粒子类型相匹配。

以前，所有的影子都是圆形的。

Shadowlet柔和度 – 控制阴影的柔和度。

预设 – 添加了21个新预设，为为您提供实时预览，并帮助您开始使用新功能。

现在有超过170个预设。

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